三菱ケミカル、北九州に半導体生産拠点を新設

拠点・施設三菱ケミカルグループは12日、三菱ケミカル九州事業所・福岡地区（福岡県北九州市）において、ArF（フッ化アルゴン）フォトレジスト用リソマックスと、EUV（極端紫外線）フォトレジスト用リソマックスの各量産設備の新設を決定したと発表した。

▲リソマックス（出所：三菱ケミカルグループ）

フォトレジスト用感光性ポリマーは、半導体の回路パターンをウエハーに転写するフォトリソグラフィー工程で使用されるフォトレジストの主成分となる樹脂。同社グループのリソマックスは、金属含有量や不純物が少ないため、半導体の回路の微細化にともなう高度な品質要求に対応でき、多くのフォトレジストメーカーに採用されている。

特に一層の微細化に不可欠なArFフォトレジストとEUVフォトレジストは、日本企業が圧倒的なシェアを持ち、今後も市場成長が見込まれているため、原料であるリソマックスの需要も着実に拡大することが見込まるという。

九州事業所・福岡地区の新設により、ArFフォトレジスト用リソマックスの生産能力が2倍以上になり、EUVフォトレジスト用リソマックスの量産を開始する。

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LOGISTICS TODAY編集部
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