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拠点・施設JX金属は10日、茨城県ひたちなか市の新工場で半導体用スパッタリングターゲットの生産能力を拡大するため、230億円の設備投資を行うと発表した。AI（人工知能）データセンター向け半導体の需要拡大を背景に、先端材料の安定供給体制を強化する狙い。設備は2027年度下期から順次稼働する予定で、生産能力は23年度比で1.6倍となる見込み。
ひたちなか新工場は、同社が22年に取得した大規模用地に整備している先端材料拠点。半導体分野を中心にデジタル社会に不可欠な材料の供給拠点として位置付けている。25年7月にはリサイクル物流センターが先行稼働しており、26年3月末にはスパッタリングターゲット製造設備の一部で試運転を開始する予定だ。
スパッタリングターゲットは半導体製造工程で薄膜形成に用いられる材料で、先端ロジック半導体やHBMなど高性能メモリ向けの需要が急速に拡大している。今回の設備増強では、既存の主力拠点である磯原工場で培った製造技術やノウハウを活用し、効率的な生産ラインを構築する。
今回の投資は、同社が公表しているひたちなか新工場全体の投資計画（1500億円）の一部。26年3月期の連結業績への影響は軽微としている。
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