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▲水島工場のGPIプラント外観（出所：日本ゼオン）
荷主日本ゼオンは12日、水島工場（岡山県倉敷市）のGPIプラントに追加投資を実施し、シクロオレフィンポリマー（COP）向け主原料となるジシクロペンタジエン（DCPD）の生産能力を増強すると発表した。能力は現行比で最大2割程度向上する見通し。2026年度下期に着工し、28年9月の完工を目指す。
DCPDは、COPやCOP製光学フィルム、RIM配合液など高機能材料の原料として使用される。特にCOPは半導体、光学用途、医療分野などで需要拡大が続いており、同社の中期経営計画「STAGE30」でも成長ドライバーに位置付けられている。
今回の投資では、従来未利用だった成分を活用する技術を導入することで、追加のC5留分を調達せずにDCPDを安定確保する。汎用品向け原料であるピペリレンなどの生産量を増やさず、高付加価値用途向け原料を増産できる点が特徴。加えて、既存成分の有効利用によりCO2排出削減効果も見込む。
水島工場は1969年に操業を開始したゼオンの基幹拠点で、独自技術「GPI法」を用いてナフサ由来C5留分からイソプレンやDCPDなどを抽出し、合成ゴムや石油樹脂、香料原料などへ展開している。
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