ADEKA、EUV材料の供給体制を2年前倒し強化

荷主ADEKA（アデカ、東京都荒川区）は20日、EUV（極端紫外線）など半導体の先端リソグラフィ工程で使う、先端フォトレジスト向け光酸発生剤の生産設備を増強すると発表した。千葉工場の既存建屋内に製造ラインを増設し、生産能力を従来比約2倍に引き上げる。投資額は10億円で、2028年9月の営業運転開始を予定する。

▲千葉工場の光酸発生剤プラント（出所：ADEKA）

半導体市場の成長に伴い、微細化に不可欠なフォトレジストの需要も拡大している。露光技術の進化やPFASフリーなどの環境対応を背景に、材料には一段と高度な性能と品質が求められている。ADEKAはArFやEUVなどの超微細加工に対応する先端リソグラフィ領域を重点分野と位置付け、化学増幅型レジスト（CAR）用光酸発生剤や金属酸化物レジスト（MOR）用金属化合物の開発、供給体制を強化している。

今回の設備投資では、需要が旺盛なEUVリソグラフィ向け光酸発生剤の供給能力を高める。1ppbレベルの厳格なメタル管理を維持しながら生産体制を最適化し、将来需要を見据えた供給体制の強化を当初計画から2年前倒しする。2027年1月に着工し、28年2月の完成を予定する。

同社は7月に本格始動した半導体イノベーションセンター（埼玉県久喜市）で、EUVや高NA EUVなど次世代の先端リソグラフィ向けに需要拡大を見込むPAGモノマーの開発・評価も加速している。研究開発と量産設備の両面を強化し、半導体材料の供給拡大につなげる。

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